工藝說明

SNCR技術(選擇性非催化還原工藝)是把還原劑NH3噴入爐騰或水泥分解爐中溫度為850-1100C的區域，該還原劑與煙氣中的NOx進行有選擇性反應生成N2和H20。

將氨水(質量濃度25%-30%)通過霧化噴射系統直接噴入爐膛或水泥分解爐合適溫度區域一旋風分離器(850-950C)，霧化后和氨與NOX(NO、NO2等混合物)進行選擇性非催化還原反應，將NOx轉化成無污染的N2。當反應區溫度過低時，反應效率會降低;當反應區溫度過高 時，氨會直接被氧化成N2和NO。噴氨后爐內發生的化學反應有:

4NH3 + 4NO +O2-4N2 + 6H20

4NH3+6NO-5N2+6H20

8NH3+6NO2-7N2+12H20

4NH3+2NO2+02-3N2+6H20

為了提高脫NOx的效率并實現NH3的逃逸 *小化滿足以下條件:在氨水噴入的位置沒有火焰;在反應區域維持合適的溫度范圍(850-950C);在反應區域有足夠的停留時間(至少1秒以上，~850C)。

工藝特點：

脫硝效率不高，一般不超過75%(理論值)，實際值在70%(如提高脫硝效率則氨的利用率會較低還原劑消耗量較大，氨逃逸率高(一般在5-10PPM)，易生成硫酸氫，造成空預器等設備堵塞和腐蝕。要求主機負荷和燃燒煤種比較穩定，一旦變化引起溫度窗口變化(對溫度的變化要求嚴格)，脫硝效率降低較快。

工藝流程圖